電化學(xué)拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時浸入到
電解槽中，通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽極溶解，從而使工件表面光亮度增大，達(dá)到鏡面效果。
電解拋光原理現(xiàn)在薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，全球各界人士爭論很多，被大家公認(rèn)的主要有黏膜理論。該理論主要為：工件上脫離的金屬離子與
拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較隨黏膜流動，凹凸不斷變化，以使工件粗糙表面逐漸被整平的過程。
電解拋光優(yōu)點
⑴內(nèi)外色澤一致，光澤持久，機械拋光無法拋到的凹處也能整平。
⑵生產(chǎn)效率高，成本低廉。
⑶增加工件表面抗腐蝕性。
電化學(xué)拋光所需條件及設(shè)備
（
1）
電源：電源可選用雙相
220V，三相
380V。
（2）整流器電解拋光對電源波形要求不是太嚴(yán)格，可選用可控硅整流器好高頻整流器。
①整流器空載電壓：0—20V②負(fù)載電壓（工作電壓）：8—10V
注：工作電壓低于6V，拋光速度慢，光亮度不足。整流器電流：根據(jù)客戶工件大小而定。
（3）電解槽及配套設(shè)施（陽極棒）
在槽上裝三根電極棒，中間為可移動的陽極棒，接電源陽極（或正極），兩側(cè)為陰極棒，連接電源陰極（負(fù)極）。
（4）加熱設(shè)施及冷卻設(shè)備
①加熱可選用石英加熱管，鈦加熱管。②冷卻可選用盤管，盤管可加熱可冷卻。
